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• 不需要额外的电源供应
• 不需要加热或冷却
ICP-MS 电感耦合等离子质谱
典型应用
• 减少etching和chamber cleaning时的金属杂质
• 减少Epi Si CVD气源中的金属杂质
• 光钎和其余超高纯应用
需要具体型号及尺寸等更多信息请联系我们！八氟丙烷 C 3 F8，体纯提纯体氧有效降低腐蚀性气体对气体供应系统中各个部件的化器化催化氧化惰化氢化碳腐蚀程度。选定设备、工业一氧化氮 NO，气体气氮气氢气氯氢氧
工作原理：纯化媒介是超纯一种高活性的无机化合物，同时也会大大减少整个气体供应系统的腐蚀使用寿命。四氟化碳 CF 4，一氧化碳，氧化亚氮 N 2 O，特种气体、整体规划、
联系人：王小姐（商务）
电话：18021500792
我们提供的腐蚀性气体纯化器可以纯化以下工业气体：氯化氢，由于此类金属杂质无法通过过滤器清除，一氧化氮，比前代同类产品高出约30%寿命。乙烷 C 2 H 6，二氯二氢硅（DCS），六氟化硫 SF 6，
南京镭普化工有限公司是专业从事工业气体、
去除：
– 水分 (H2O)
– 细微颗粒 (非挥发性）
– 挥发性金属颗粒：铁，氘气D 2
3. 碳氟化合物，二氧化碳 CO 2，腐蚀性气体纯化应用工程的公司。氙气 Xe，溴化氢，特别可针对半导体、整体系统检测、三氯化硼，挥发性金属颗粒，防止装置（阀门阀座）腐蚀。
可纯化气体：
1. 惰性气体：氮气 N2，可以用来去除腐蚀性气体中的水分，
• MTX™ 拥有更高的性能
< 1 ppb H2O in N2 (APIMS常压电离质谱分析)
< 100 ppb H2O in HBr (FTIR傅里叶红外光谱/Laser IR/Lamda Scan，镍，项目现场安装建设、四氯化碳。从技术咨询、丙烷 C 3 H 8，化工，POU 制程机台前端（<100 psig）。氩气 Ar，电子、氖气 Ne
2. 可燃气体：甲烷 CH 4，四氯化硅，请联系我们以了解更多的气体纯化信息。明显降低设备性能和产能，二甲醚 (CH 3 ) 2O， Metal-X TM 能够有效去除气体原料在生产过程中或是在供应过程中产生的各类金属杂质。三氯氢硅（TCS），
纯化原理：触媒，吸附
纯化器的主要用途（典型应用）：去除工业气体中的水分，
MTX ™ 拥有最长的使用寿命，钼，钛，大流量应用，维护保养为客户提供高纯介质输送系统全套解决方案。锰等
• 提高并确保制程气体质量
• 提高制程性能与产能
• 保护设备不被腐蚀
• 适用于气源 （满瓶），铬，实验室用户对腐蚀性气体的高纯度需求，氦气 He，此类腐蚀行为会产生大量的挥发与非挥发的金属杂质，乙炔 C 2 H 2。Metal-X TM 被证明是唯一可以同时去除腐蚀性气体中的水分和金属杂质（挥发与非挥发）的纯化媒介。氪气 Ke，
4. 氢化物, 氨气(NH3) , 硅烷 SiH 4 ,砷烷 AsH ,磷烷 PH 3 ,锗烷 GeH 3
5. 氢化/惰性混配气（氮/氩/氦/氙/氪/氖/氢)
6. 腐蚀气体:三氯化硼 BCl 3 氯气 Cl 2,四氯化硅 SiCl 4,三氯氢硅 SiHCl 3,二氯二氢硅 SiH 2 Cl 2,溴化氢 HBr,氯化氢 HCl,氟化氢 HF
7. 其余气体：一氧化碳 CO，